課程資訊
課程名稱
 積體電路工程
Integrated Circuit Technology 
開課學期
 102-1 
授課對象
 電機資訊學院  電機工程學研究所  
授課教師
 田維誠 
課號
 EE5114 
課程識別碼
 921 U7120 
班次
  
學分
 3 
全/半年
 半年 
必/選修
 選修 
上課時間
 星期五2,3,4(9:10~12:10) 
上課地點
 明達205 
備註
 總人數上限：100人 
Ceiba 課程網頁
 http://ceiba.ntu.edu.tw/1021_ee5114 
課程簡介影片
 
核心能力關聯
 本課程尚未建立核心能力關連
課程大綱
為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
課程概述

本課程將介紹積體電路製程，涵遙s程各階段之基礎理論與技術、設備原理與應用，並著重製程整合與前瞻性元件製程發展之配合。內容以CMOS之矽製程為主軸，並包含各種不同元件之製程探討。
內容包含:
1. Introduction
2. Modern Electronic Device Technology
3. Crystal Growth, Wafer Fabrication and Basic Properties of Silicon Wafers
4. Semiconductor Manufacturing
5. Lithography
6. Thermal Oxidation
7. Diffusion
8. Ion Implantation
9. Thin Film Deposition
10. Etching
11. Back-end technology
In addition, we may invite a few speakers to give the modern technology review and introduction on certain topics. 

課程目標
 建立對積體電路製程之知識基礎，了解各製程步驟之特性、用途、限制，以及各步驟間相容或相斥之關係，探討製程整合之方法及考量因素，以用於先進元件與製程之研究發展。 
課程要求
 無，但建議具備基礎電子學與半導體之知識。
The grading criteria to be announced in class. 
預期每週課後學習時數
  
Office Hours
  
指定閱讀
  
參考書目
 Textbook： Textbook:
1. Class Handouts
2. J. D. Plummer, M. D. Deal, & P. B. Griffin, “Silicon VLSI Technology,”
Prentice Hall


Reference： References:
1. M. Quirk and J. Serda, “Semiconductor Manufacturing Technology,” Prentice
Hall
2. S. M. Sze, “Semiconductor Devices Physics and Technology,” Wiley
3. C. Y. Chang & S. M. Sze, “ULSI Technology,” McGraw-Hill
4. V. Zant, “Microchip Fabrication,” (5th ed.), McGraw-Hill
5. S.K. Ghandhi, “VLSI Fabrication Principles,” (2nd ed.), Wiley
6. S. Wolf, “Silicon Fabrication for the VLSI Era, Vol. 2 – Process
Integration,” Lattice
 
評量方式
(僅供參考)
    
課程進度
週次
日期
單元主題
第1週
 9/13  Course Introduction Note:Buy textbook 
第3週
 9/27  積體電路介紹與歷史展望/Semiconductor & devices basics

 
第4週
 10/04  現代化的 CMOS 技術
 
第5週
 10/11  晶體成長、晶圓製造與矽晶圓的基本性質 
第6週
 10/18  半導體製造 ─ 無塵室、晶圓清洗、吸附/微影 
第7週
 10/25  熱氧化與 Si/SiO2 界面
 
第8週
 11/01  TCAD Lab time (Silvaco on site training)
 
第9週
 11/08  1st Exam (close book)
 
第10週
 11/15  校慶停課一次
1st mini lab due
(Fri 5pm)
 
第11週
 11/22  摻質擴散 Note:2nd mini lab hand-out 
第12週
 11/29  離子佈植 
第13週
 12/06  薄膜沉積
2nd mini lab due (Fri 5 pm)
 
第14週
 12/13  蝕刻
One page final project proposal approved day

 
第15週
 12/20  後段技術
 
第16週
 12/27  Final projection presentation and paper due
 
第17週
 1/03  Invited talk (tentatively)
 
第18週
 1/10  2nd Exam (close book)